VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產品概述：
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是*新研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
主要特點：
l 可制備多種薄膜，應用廣泛
l 體積小，操作簡便
l 真空腔室、真空泵組整機模塊化設計
，控制電源為分體式設計，可根據用戶實際需要調整購買需求。
l 可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍
磁控濺射頭：
l 儀器中安裝有3個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
l 其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
l 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材
l 靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）
l 可以單獨訂購RF連接線作為備用
l 設備包含一臺水冷機，用于靶頭冷卻
載樣臺：
l 載樣臺尺寸：φ140mm（*大可放 置4"的基底）
l 載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調）
l 載樣臺*高可加熱溫度為500℃
真空腔體：
l 真空腔體：φ300 mm×300 mm H，采用不銹鋼制作
l 觀察窗口：Φ100 mm
l 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
氣體流量控制器：
l 儀器內部安裝有2個質量流量計，量程為：0-100sccm
l 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
l 此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）
真空系統：
l 配有一套GZK-103D分子泵系統（德國制作）
l 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar
薄膜測厚：
l 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝
在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
l LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
產品外形尺寸：
l L1300mm×W660mm H1200mm
l 凈重：160 kg
質量認證：CE認證
使用提示：
l 此設備為DIY設備，參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通
l 為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
l 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
l 超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥 （4）真空烘箱除去水分。
l 等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
l 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。
警示：
l 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體
l 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
l 濺射頭連接到高電壓。為了**，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶
